TELLUS HR · Difractómetro de rayos X

TELLUS HR · Difractómetro de rayos X
Difractómetro de rayos X de alta resolución diseñado para investigación estructural avanzada y análisis de películas delgadas. Preparado para aplicaciones que exigen máxima precisión, ofrece rendimiento de nivel de laboratorio para semiconductores, epitaxia y materiales de próxima generación.
LINEV Systems XRD TELLUS HR
LINEV Systems XRD TELLUS HR
LINEV Systems XRD TELLUS HR

TELLUS HR – Descripción

TELLUS HR es un difractómetro de rayos X de alta resolución diseñado para investigaciones exigentes en cristalografía estructural, capas epitaxiales y películas delgadas avanzadas.

Con estabilidad de laboratorio, un sistema óptico configurable y un goniómetro de radio variable, ofrece una resolución angular excepcional para análisis preciso de fases, evaluación de tensiones y estudios de textura en ciencia de materiales de vanguardia y en I+D de semiconductores.

Mientras que TELLUS BASIC y PRO cubren respectivamente el análisis rutinario y la investigación avanzada, TELLUS HR está diseñado para tareas de alta resolución que requieren máxima precisión angular y sensibilidad estructural. Amplía las capacidades de XRD hacia aplicaciones de última generación, incluyendo:

  • Análisis de películas delgadas epitaxiales y mapeo del espacio recíproco (RSM)
  • Estudios de alta resolución de tensiones residuales y textura
  • Transiciones de fase y refinamiento estructural
  • Detección de picos ultra estrechos (FWHM ≤ 0.01°)

TELLUS HR está diseñado para cumplir con los requisitos más exigentes de la difracción de rayos X de alta resolución. Proporciona una precisión angular, sensibilidad y estabilidad del sistema superiores, lo que lo convierte en una opción ideal para laboratorios que trabajan con capas epitaxiales, recubrimientos funcionales y sistemas avanzados de materiales.

Su goniómetro Ө–Ө de radio variable (150–310 mm), la geometría de escaneo desacoplada y la óptica modular permiten a los investigadores explorar estructuras complejas con una resolución sin precedentes. Ya sea para analizar películas delgadas, tensiones residuales o evolución microestructural, TELLUS HR proporciona la profundidad analítica y la flexibilidad necesarias para experimentos de última generación.

Las aplicaciones incluyen epitaxia de semiconductores, recubrimientos funcionales, nanomateriales, productos farmacéuticos y estudios estructurales de precisión en entornos académicos e industriales de I+D.

En comparación con otros modelos de la serie TELLUS, HR ofrece el mayor nivel de configurabilidad y precisión de medición. Sus opciones avanzadas de detector, la fuente de rayos X de alta potencia (hasta 3 kW) y el soporte para modos de adquisición 1D/2D lo posicionan como la plataforma XRD definitiva dentro de la categoría de sobremesa.

El software intuitivo, la construcción robusta y la integración flexible con una amplia gama de accesorios hacen de TELLUS HR una inversión a largo plazo en precisión científica y fiabilidad.

Comparación con otros modelos TELLUS

Característica / ModeloTELLUS BASICTELLUS PROTELLUS INDUSTRYTELLUS HR
Público objetivoEducación, investigación, laboratorios de control de calidad rutinarioInvestigación, industria de alta tecnologíaCemento, minería, metalurgia, control de procesosI+D avanzada, semiconductores, epitaxia
Radio del goniómetro150 mmVariable, 150–210 mm150 mm con montaje industrial fijoAlta precisión 240 mm
Rango de escaneo (2Ө)–6° a +154°–12° a +160°–6° a +154°–20° a +170°
Análisis de películas delgadasLimitadoGIXRD, XRR, análisis de texturaNo requeridoHRXRD, RSM, XRR, análisis de películas epitaxiales
Tensiones residuales y texturaNo disponibleDisponibleNo requeridoMapeo de tensiones residuales y textura de alta resolución
Plataforma de muestraFija con rotación opcionalPlataforma Z-Phi de dos ejesCarrusel de carga automatizado o bandeja por lotesPlataforma de goniómetro motorizada de cinco ejes
AccesoriosPortamuestras básicos para polvosEspejo Goebel, colimador de placas paralelas, portamuestras capilarAutosampler integrado, chasis protegido contra polvo, interfaz compatible con LIMSÓptica de alta resolución, acondicionadores de haz, entorno avanzado para muestras
Generador de rayos X40 kV / 15 mA (600 W)40 kV / 30 mA (1200 W)40 kV / 15–30 mA (hasta 1200 W)Sistema de alta estabilidad de 3 kW (opcional)

Paquete de software

  • TELLUSCon
  • Software especializado
  • Bases de datos COD, PDF-2

Pantalla de interfaz LV TELLUS

Aplicaciones clave:

  • Determinación de estructura cristalina (incluida la refinación de parámetros de red)
  • Análisis de fases multicomponente
  • Análisis de textura
  • Evaluación de tensiones residuales
  • Reflectometría de rayos X (XRR)
  • Difracción de rayos X a incidencia rasante (GIXRD)
  • Dispersión de rayos X a pequeño ángulo (SAXS)
  • XRD dependiente de la temperatura

Características clave

Goniómetro Ө–Ө de radio variable

Goniómetro Ө–Ө de radio variable

Geometría de escaneo de alta precisión con rango de radio de 150–310 mm para mediciones de alta resolución tanto simétricas como asimétricas.

Detectores de conteo de fotones (0D, 1D, 2D)

Detectores de conteo de fotones

Múltiples formatos de detector (0D, 1D, 2D) garantizan una adquisición de datos óptima para experimentos de alta sensibilidad y resolución angular.

Resolución angular ultra alta

Resolución angular ultra alta

Alcanza valores FWHM de hasta 0.01°, ideal para películas delgadas epitaxiales, evaluación de deformaciones y cristalografía avanzada.

Fuentes de rayos X de alta potencia hasta 3 kW

Fuentes de rayos X de alta potencia

Admite generadores de hasta 60 kV / 50 mA (3000 W) para un haz intenso y una adquisición rápida de datos.

Óptica modular para configuraciones personalizadas

Óptica modular de alta resolución

Incluye espejos Goebel, colimadores de placas paralelas y rendijas para adaptarse a necesidades experimentales desde polvo hasta epitaxia.

Estabilidad y fiabilidad a largo plazo

Alta estabilidad mecánica y térmica

Garantiza reproducibilidad a largo plazo y consistencia de datos en investigaciones prolongadas y entornos de alta precisión.

Certificaciones y conformidad

ISO 9001:2015
CE

Vídeo

Datos técnicos

Detalles

Generador de rayos X40 kV / 30 mA (1200 W) o 60 kV / 50 mA (3000 W)
Sistema de refrigeraciónRefrigeración por agua en circuito cerrado (interna o externa)
GoniómetroӨ–Ө vertical, desacoplado, radio 150–310 mm
Rango de escaneo–12° a +160° (2Ө)
Paso mínimo0.0003° (2Ө)
Precisión de posicionamiento±0.01° (2Ө)
Velocidad de escaneo0.01–600°/min
Tipos de detectoresDetectores Si de conteo de fotones 0D, 1D, 2D
FWHM mínimo del pico≤ 0.01°

Periféricos

InterfazUSB / Ethernet
OrdenadorPC con sistema operativo Windows

Dimensiones

Dimensiones generales
Ancho820 mm
Profundidad820 mm
Altura1000 mm
Peso (máximo)130 kg

Detalles

Generador de rayos X40 kV / 30 mA (1200 W) o 60 kV / 50 mA (3000 W)
Sistema de refrigeraciónRefrigeración por agua en circuito cerrado (interna o externa)
GoniómetroӨ–Ө vertical, desacoplado, radio 5.9–12.2 in
Rango de escaneo–12° a +160° (2Ө)
Paso mínimo0.0003° (2Ө)
Precisión de posicionamiento±0.01° (2Ө)
Velocidad de escaneo0.01–600°/min
Tipos de detectoresDetectores Si de conteo de fotones 0D, 1D, 2D
FWHM mínimo del pico≤ 0.01°

Periféricos

InterfazUSB / Ethernet
OrdenadorPC con sistema operativo Windows

Dimensiones

Dimensiones generales
Ancho32.3 in
Profundidad32.3 in
Altura39.4 in
Peso (máximo)287 lbs

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